УДК 621.382

Исследование электрохимических характеристик ионно-модифицированной меди для элементов ИС СВЧ

 

И. В. Перинская, В. В. Перинский

Саратовский государственный технический университет имени Гагарина Ю.А.,
10054, Саратов, ул. Политехническая, д.77

 

Статья поступила в редакцию 17 января 2019 г.

 

Аннотация. Показано, что эффект химической пассивации металлов: алюминия, титана, хрома – коррелирует с изменением примесного состава ионно-имплантированных  аргоном материалов и, в первую очередь, с повышением  концентрации углерода, а также с объемными нано-структурными превращениями, проявляющимися в аморфизации либо диспергировании металлов, и дальнейшим формированием точечных кристаллических и сферолитных включений. Интерес представляет применение этого метода для защиты медных покрытий, т.к. их низкая коррозионная стойкость является основным фактором, ограничивающим возможные области применения этих покрытий и, в частности, использование их без защиты пленками редких и драгоценных металлов. Предложен способ получения композитного покрытия на основе «толстых» (12 мкм) слоев меди, применяемых в ИС СВЧ ионно-лучевым модифицированием ионами аргона, исследованы коррозионная стойкость микрополосковых линий на их основе.

Ключевые слова: ионно-лучевое модифицирование, ионная имплантация, наноразмерное беспористое углеродное покрытие, коррозионная стойкость, «толстые» (12 мкм) слои меди.

Abstract.   Effect of chemical passivation of metals: aluminum, the titan, chrome – correlates with change of impurity composition of the materials ion-implanted by argon and, first of all, with increase in concentration of carbon and also with the volume nanostructural transformations which are shown in amorphicity or dispersion of metals and further formation of pointed crystal and sferolitny inclusions. Application of this method is of interest to protection of copper coverings since their low corrosion resistance is the major factor limiting possible scopes of these coverings and, in particular, their use without protection with films of rare and precious metals. The way of receiving a composite covering on the basis of «thick» (12 microns) the layers of copper applied in IS microwave oven by ion-beam modifying by argon ions is offered are investigated corrosion resistance of microstrip lines on their basis. The hypothesis of use of the ion-modified copper as a gold analog in microwave oven microelectronics devices is stated. Dust removal of a surface of products in the course of ionic radiation as dust particles, impenetrable for ions, lead at chemical etching of coverings to emergence of numerous protrav and a time is important for technological applications of ion-beam passivation. For the solution of this task at the high general level of electronic hygiene, it is necessary to apply implantation of more high-energy ions, repeated ion-beam modifying , pulse vibration in the course of implantation.

Keywords: ion-beam modifying, ionic implantation, nanodimensional pore-free carbon covering, corrosion resistance, «thick» (12 microns) copper layers.

 

Для цитирования:

И. В. Перинская, В. В. Перинский. Исследование электрохимических характеристик ионно-модифицированной меди для элементов ИС СВЧ. Журнал радиоэлектроники [электронный журнал]. 2019. №1. Режим доступа: http://jre.cplire.ru/jre/jan19/7/text.pdf

DOI 10.30898/1684-1719.2019.1.7