УДК 537.622.4
Особенности формирования аморфной фазы на поверхности
функционального сплава Ti2NiCu при
селективном травлении ионами галлия
В. С. Афонина1,
А. В. Иржак2,3, В. В. Коледов1, В. Г. Шавров1,
В. А. Дикан2,
Д. А. Подгорный2
1Институт
радиотехники и электроники имени В.А. Котельникова РАН
2Национальный
исследовательский технологический университет «МИСиС»
3Институт
проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов РАН
Статья поступила в
редакцию 1 декабря 2015 г.
Аннотация. Экспериментально изучен процесс
формирования аморфной фазы на поверхности быстрозакаленного функционального
сплава Ti2NiCu с ЭПФ при обработке в установке селективного ионного
травления (ФИП). Исследовано воздействие фокусированного пучка ионов галлия на поверхность
сплава в различных режимах и геометрии. При помощи метода просвечивающей
электронной микроскопии (ПЭМ) показано, что ионный пучок формирует на
поверхности кристаллического сплава аморфный слой с четкой границей.
Отмечается, что аморфный слой может как оказывать негативное воздействие на
качество субмикронных образцов сплава Ti2NiCu,
которые находят применение в качестве активного материала в микросистемной
технике, так и расширить функциональные возможности наноструктур на его основе.
Ключевые
слова: эффект памяти
формы, метод селективного ионного травления, микросистемная техника, аморфная
фаза сплава, Ti2NiCu.
Abstract. The process of formation of an amorphous phase on the surface of the
functional alloy Ti2NiCu with shape memory effect (SME) is studied
experimentally, under action of gallium ion beam in the device for selective
ion etching (FIB). The influence of a focused beam of gallium ions up on the
properties of the surface of the alloy in the different conditions and geometry
is investigated. By the method of TEM it is shown that the ion beam produces the
amorphous layer on the surface of crystalline alloy with a sharp boundary. It
is noted that the amorphous layer can both adversely affect the quality of
samples of submicron Ti2NiCu alloy, which are used as active
materials in microsystems technology, and expand the functionality of
nanostructures on its basis.
Keywords: shape memory effect, the method of selective ion etching, microsystem
technology, the amorphous phase of the alloy, Ti2NiCu.